据澎湃新闻报道，12月17日晚，财政部、税务总局、发展改革委、工信部四部门联合下发了《关于促进集成电路产业和软件产业高质量发展企业所得税政策的公告》。政策明确了相关企业享受减免企业所得税的具体条件，并于年1月1日起执行。
早在4个月前，国务院就出台了《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》，从财税、投融资、研究开发、进出口、人才、知识产权、市场应用、国际合作等八个方面支持集成电路产业和软件产业发展。
总体来看，企业拥有的技术含量越高，获得所得税减免的力度越大，且减免范围也比以前更广。比如，集成电路线宽小于28纳米(含)，且经营期在15年以上的生产企业或项目，可免征10年企业所得税。这也是针对芯片制造首次推出“十年全免”政策。
根据海关公开数据，年中国芯片进口额为亿美元，超过原油、铁矿砂、粮食总和亿美元。美国限制芯片出口的行动，一定程度上激起了自主研发芯片的决心和力量。此次四部门联合发布支持集成电路发展的政策，将加快我国集成电路产业的发展。
但是集美们，你们知道吗?一张硅片要生产成为一个完整的芯片，需要在一两个月内的时间通过-个工序，其中清洗工程占据了其中的30%左右，因此芯片清洗对于芯片生产来说具有重要的意义，芯片清洗用水往往通过超纯水设备进行生产。
德兰梅尔反渗透膜的过滤工艺就是反渗透技术，反渗透就是在浓溶液侧施加大于溶液渗透压的压力，迫使水分子逆向(与自然渗透方向相反)通过半透膜进入稀溶液的过程，由于在反渗透过程中，浓溶液侧的水分子通过半透膜流向稀溶液，而绝大部分溶质(溶解性固体)却无法透过膜，被截留下来。故浓溶液被进一步浓缩或者说脱水，稀溶液被稀释纯化或者说脱盐。出水水质电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值(25℃)。
德兰梅尔抗污染反渗透膜能够帮助企业节省投资、降低运行费用、减少单位消耗。以低成本，助力企业产业升级。
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