TML10D是一款四英寸的东丽反渗透膜，在日常的使用过程中，会因为各种原因导致污染物的积攒。这些污染物必须要及时处理，否则会使TML10D的膜通量下降，产水量降低。针对不同的污染物，清洗TML10D有不同的清洗剂的选择
如何清洗东丽反渗透膜TML10D
如果是表面小部分的颗粒杂质，用反渗透产水即可清洗。所以主要讨论TML10D的化学清洗。针对其污染物质的种类，相对应的化学清洗剂和清洗条件如下：
1.无机盐垢。针对无机盐垢，首选的化学清洗剂是0.2%HCl溶液，其清洗的条件为pH值2~4，温度小于35℃。备选的化学清洗剂为2.0%柠檬酸、1.0%Na2S2O4、0.5%磷酸。
2.金属氧化物。针对金属氧化物，首先的化学清洗剂是1.0%Na2S2O4溶液，其清洗的条件要求温度小于35℃。备选的化学清洗剂为2.0%柠檬酸、0.5%磷酸。
3.不溶于酸的垢（CaF2、BaSO4、SrSO4、CaSO4）。针对这些，首选0.1%NaOH溶液+1.0Na4EDTA溶液，其清洗条件是pH值11~12，温度小于30℃。备选SHMP浓度1%
4.无机胶体。对于无机胶体，首选的化学清洗剂是0.1%NaOH溶液+1.0%Na-SDS，其清洗条件如不溶于酸的垢（pH值11~12，温度小于30℃）。
5.硅垢。硅垢首选的化学清洗剂为0.1%NaOH溶液+0.%Na-SDS，其清洗条件也是pH值11~12，温度也是小于30℃。备选的化学清洗剂为0.1%NaOH溶液+1.0%Na4EDTA溶液。
6.微生物。微生物首选化学清洗剂同硅垢，清洗条件同硅垢，备选清洗剂同硅垢。
7.有机物。对于有机物首选的化学清洗剂为0.1%NaOH溶液+0.%Na-SDS通常作为第一步的清洗，其清洗条件同硅垢。0.2%HCl溶液通常作为碱洗后的第二步清洗。
需要注意的是：
1.对于细菌污染物采用消毒和清洗剂的消毒最为有效。先进行消毒，再采用清洗剂去污。
2.对于多种污染物同时并存的情况，通常需要多种清洗方法结合才能达到良好的效果。清洗顺序一般是先进行除铁清洗，然后进行酸性清洗，再进行碱性清洗。
3.如果清洗后的脱盐率不理想，可以再使用酸性药剂对膜表面进行冲刷，最后用预处理后的水（最好是RO产品水）将清洗液彻底冲洗干净。
东丽反渗透膜有着脱盐高、操作压力低、投入成本少等优质的特点，这些特点使其收获了一大批的忠实用户。这些用户不仅是被东丽反渗透膜的优异性能吸引的，更是因为东丽反渗透膜在操作维护等方面具有简易性，不需要耗费太多的人力物力，能够为使用者大大地节省相关的成本。
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