延安光学清洗纯水设备，清洗纯水设备的出水水质纯度已经成为影响光学器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一，因此光学领域对水质的要求也越来越高。同时，纯水设备的性能好坏，直接影响到纯水的质量。
在光学产品生产中，不同的工艺生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。清洗需用纯水，如水中含有氯离子，电容器就会漏电。在电子管生产中，电子管阴极涂甫碳酸盐，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命。继与东方、万新、和元等光学企业水处理合作后，近日为诚投光学提供了光学清洗纯水设备服务，得到了用户的肯定与好评。该纯水处理工艺为：预处理+RO反渗透+EDI+抛光混床，出水电阻值大于18兆欧。
一，光学清洗纯水设备系统简介：
在光学产品制造工艺中，大约有80％以上的工艺直接或间接需要用到超纯水，并且大约有一半以上工序，如硅片直接与水接触后，紧接着就进人高温过程，此时水中含有的杂质就会进入硅片而导致IC器件性能下降、成品率降低。确切一点说，向生产线提供稳定优质的超纯水将涉及到企业的成本问题。
1.预处理系统
预处理系统作为反渗透的前处理，主要目的是去除原水中的悬浮物、胶体、色度、浊度、有机物等妨碍后续反渗透运行的杂质。
预处理的设备主要包括：原水箱、原水泵、多介质过滤器、活性炭过滤器等。
A.原水箱
原水首先流入原水箱。原水箱对原水的供给起到缓冲作用，协调原水的供给量与原水泵的输入量。当原水的供应量超过原水泵的输水量时，原水箱水满，通过原水箱的液位元元控制使用原水供给停止。当原水供应量小于原水泵的输水量时，原水箱空，原水泵停止运行，起到保护原水泵的作用。
B.原水泵
用于对原水加压，为预处理系统提供动力源，该泵具有体积小，高效率，低噪音等特点。
C.加药系统：(絮凝剂)
原水中投加入絮凝剂与原水中胶体、颗粒形成絮凝体，有利于在多介质过滤器中被过滤掉，提高过滤效果，进一步降低出水浊度，保证RO进水SDI≤2。
该设备占地小，安装移动方便。就位后，只要接上水、电，即可使用，操作管理简便，大大地减少操作人员的劳动强度。药剂的投加随高压水泵的启停而自动投加,药剂添加量是可调的。
D.多介质过滤器
本系统是对原水中悬浮物、颗粒物及胶体等物质进行去除，同时对原水中的浊度、色度起到降低作用，它完全可能滤掉原水带来的颗粒、藻类等可见物。
多介质过滤是一种先进的微絮凝过滤方式，多介质过滤器含有材质各异的多层过滤介质，完全能滤除不溶于水中的杂质，保证SDI值不大于3，是后级RO的强有力保护屏。能更好的去除水中的悬浮物或非溶解性粒子（氧化物、浊度、颗粒物等），具有低成本，操作维护、管理方便等特点，特别是在降低原水中的浊度、污染指数等方面具有很好的效果。多介质过滤器反洗周期时间为16-24小时。反洗以压力参数设备来控制反冲洗周期，当进出水母管上的压力差达到0.5kg/cm2时即停止运行进行反冲洗，反洗水可由单独设置的反洗水泵供水控制和调节反洗水流量，反洗水强度应使滤层膨胀15-25%。反洗时送入压缩空气，擦洗滤料，其强度为30-50升/秒·米2，反洗水可用反渗透的浓水。
E.活性炭过滤器
市政自来水在经过消毒处理后，
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