（1）RO系统如何做预处理
通常的RO的预处理系统组成如下，
a.粗滤(～80微米)以除去大颗粒，加入次氯酸钠等氧化剂。
b.经多介质过滤器或澄清池进行精密过滤。
c.再加入亚硫酸氢钠还原余氯等氧化剂。
d.在高压泵入口之前安装保安滤器保安滤器是作为最终保险的一种措施，以防止大颗粒对高压泵叶轮和膜元件的破坏作用。
含颗粒悬浮物较多的水源，通常需要更高程度的预处理，才能达到规定的进水要求;硬度含量高的水源，建议采用软化或加酸和加阻垢剂等，对于微生物及有机物含量高的水源，还需要使用活性炭或抗污染膜元件。
（2）硅的脱除
水中硅以两种形态存在，活性硅(单体硅)和胶体硅(多元硅)，胶体硅没有离子的特征，但尺度相对较大，胶体硅能被精细的物理过滤过程所截留，如反渗透，也可以通过凝聚技术降低硅在水中的含量，如混凝澄清池，但是对于那些需要依靠离子电荷特征的分离技术，如离子交换树脂和连续电去离子过程(CDI)，对脱除胶体硅效果十分有限。活性硅的尺寸比胶体硅小得多，大多数的物理过滤技术如混凝澄清、过滤和气浮等均无法脱除活性硅，只能通过反渗透、离子交换和连续电去离子过程才有效脱除。
（3）系统的启停及运行间隔
膜系统是按连续运行作为设计基准的，但在实际操作时，总会有一定频度的开机和停机。当膜系统停机时，必须用其产水或经过预处理合格的水进行低压冲洗，从膜元件中置换掉高浓度但含阻垢剂的浓水。还应采取措施预防系统内水漏掉而引入空气，因为元件失水干燥后可能会产生不可逆的产水通量损失。如果停机小于24小时，则无需采取预防微生物滋生的措施。但如果停机时间超过上述规定，则应采用保护液作系统保存或定时冲洗膜系统。
在不作系统冲洗时，如果系统使用了阻垢剂，水温在20～38℃之间，允许停机大约4小时；在20℃以下时，允许停机大约8小时；如果系统未用阻垢剂，允许停机约1天。
（4）膜受到污染状况的判断和处置
RO膜污染的常见状况有：
1.在标准压力下，产水量下降，此时，为了达到标准产水量，必须提高运行压力
2.进水与浓水间的压降增加
3.膜元件的重量增加
4.膜脱除率明显变化(增加或降低)
5.当元件从压力容器内取出时，将水倒在竖起的膜元件进水侧，水不能流过膜元件，仅从端面溢出(表明进水流道完全堵塞)。
（5）防止微生物在膜元件原包装内的滋生
当保护液出现混浊时，很可能是因为微生物滋生之故。用亚硫酸氢钠保护的膜元件应每三个月查看一次。当保护液出现混浊时，应从保存密封袋中取出元件，重新浸泡在新鲜保护液中，保护液浓度为1%(重量)食品级亚硫酸氢钠（未经钴活化过），浸泡约1小时，并重新密封封存，重新包装前应将元件沥干。
（6）膜系统清洗方法及选择
为了获得最好的清洗效果，需正确选择对应的清洗药剂和清洗步骤，错误的清洗实际上还会恶化系统性能，一般来说，无机结垢污染物，推荐使用酸性清洗液，微生物或有机污染物，推荐使用碱性清洗液。通常情况下，当标准化通量下降10～15%时，或系统脱盐率下降10～15%，或操作压力及段间压差升高10～15%，应清洗RO系统。清洗频度与系统预处理程度有直接的关系，当SDI时，清洗频度可能为每年4次;当SDI15在5左右时，清洗频度可能要加倍但清洗频度取决于每一个项目现场的实际情况。
（7）膜元件上安装盐水密封圈及方向的确定
膜元件上的盐水密封圈要求装在元件进水端，同时开口面向进水方向，当给压力容器进水时，其开口(唇边)将进一步张开，完全封住进水从膜元件与压力容器内壁间的旁流。
（资料来源：环保项目工程技术中心）
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