随着半导体设计在生产过程中向精密化、小型化、小型化发展，对纯水质量的要求也越来越高，超纯水是一种除水离子外，还含有硅石、微粒、细菌、有机物质和微生物一并给予有限度的去除达到完全纯净程度的水质，常用于电子行业。所以超纯水设备已经成为了半导体行业用水的重要保障。
超纯水设备顾名思义，其是采用EDI技术和反渗透技术相结合，可有效去除水中悬浮物、胶体、颗粒等杂质，达到净化水质的良好目的。此设备无需添加任何化学药剂，无需担心水质的二次污染。
超纯水设备工艺流程
自来水进入原水箱，通过原水泵增压，经砂滤器、炭滤器、阻垢剂加药、保安过滤器，到达反渗透单元，经两级反渗透过滤进入EDI单元，抛光混床单元，EDI出水进入纯水水箱，此时水质的电阻率是15兆欧，经过抛光混床后，产水电阻率达到18兆欧，但是不进入水箱，直接进入用水点。因为水箱中若出现产水滞留，会影响产水水质。纯水供水设计为循环方式，经纯水供水泵增压，通过紫外线消毒器、抛光混床接入纯水供水管，到达使用点。
超纯水设备一般包括石英砂滤器、活性碳滤器、阻垢剂、精密过滤器、RO反渗透主机系统、EDI电除盐系统、离子交换混床系统等构成。通过多年来的实践，莱德采用反渗透技术和EDI装置相结合的工艺制备超纯水，莱德超纯水设备具有很好的实用价值，可以实现自动控制，从某种程度上而言，可以有效的达到我国电子级水质标准，具有自动化程度高，水质稳定等优势。
莱特莱德超纯水设备（
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