半导体行业的生产加工过程与水的使用密不可分，这就要求水质到达一定的生产使用指标，其中不可含有任何的离子杂质。这就需要电子半导体超纯水设备将水中的导电介质去除，再将水中的胶体物质、气体和有机物去除。我们使用电导率和电阻率来表示超纯水的纯度。
目前，我国电子工业部把电子级水质标准分为五个标准（18MΩ·CM、15MΩ·CM、10MΩ·CM、2MΩ·CM、0.5MΩ·CM）以区分不同的水质。
1、≥15MΩ·CM电子半导体超纯水设备工艺流
预处理系统→反渗透系统→中间水箱→中间水泵→EDI处理装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→超纯水
2、≥17MΩ·CM电子半导体超纯水设备工艺流程:
预处理系统→一级反渗透系统→PH调节→中间水箱→第二级反渗透系统→纯水箱→纯水泵→EDI处理装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→超纯水
3、≥18MΩ·CM电子半导体超纯水设备工艺流
预处理系统→反渗透系统→中间水箱→中间水泵→EDI处理装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→超纯水
随着科技研发手段的提高，新的工艺代替传统工艺，您可以根据您所需的水质要求选择适合您的工艺流程。
电子半导体超纯水设备应用领域：
1、半导体和晶圆材料的生产、加工、清洗等步骤。
2、高品质显像管、荧光粉的生产。
3、超纯材料和超纯化学试剂的纯水使用。
4、生产液晶显示器屏幕时所需要的纯水清理和纯水配液。
5、半导体行业对材料、器材、集成电器和印刷电路板上的应用。
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