TMH20A-C膜元件在长期的使用中，会逐渐形成污堵。当污堵产生时，会通过产水量、脱盐率以及压差表现出来。若其标准化的产水量下降了10%或脱盐率下降了15%，或者系统某段的进水和浓水的压差上升到初始压差值的%，就可以判断其污堵形成。TMH20A-C膜元件产生污堵就需要及时清洗，以恢复其性能。
东丽极超低压反渗透膜TMH20A-C清洗注意事项
在对TMH20A-C膜元件进行清洗时，有一些注意事项需要遵守，具体注意事项如下：
1.发生污堵就必须马上进行清洗。及时对膜系统进行清洗，有助于维护其稳定运行，避免由于其性能的下降导致运行成本的增加。通常采用化学清洗的方式将造成膜元件或系统污堵的污染物质去除。
2.当压差超过3bar建议更换膜元件。从反渗透系统的运行来说，压差超过了3bar就已经积累了非常多的污染物，化学清洗已经很难将其清洗干净了，严重影响了膜元件的性能。若出现这种情况更换膜元件是最好的选择。
3.需要记录清洗过程。记录清洗过程就主要是记载清洗的方法、清洗条件及清洗前后的系统的运行参数。有关清洗数据记录，包括清洗水温、化学清洗剂的浓度、pH控制、循环浸泡的时间；还有清洗前后水量、产水水质以及各段压差的数据变化。对于化学清洗剂的选择，要根据污染种类以及实际的运行情况来决定。
4.对TMH20A-C膜元件进行清洗时，其进膜的压力不要超过0.2MPa，否则可能会对膜元件造成损伤。
5.化学清洗过后，需要对系统进行再一次的冲洗，目的在于将化学清洗的残留物质去除。冲洗水以反渗透产水为宜。
6.化学清洗通常是先进行碱洗再进行一次酸洗，对于二段无机结垢，建议先进行酸洗，再碱洗。避免结垢物因冲洗划伤膜表面，造成不可逆的物理损伤。通过这种清洗方式，能够有效地去除污染物质，快速恢复膜元件的性能，提高产水的水质。
东丽反渗透膜有着脱盐高、操作压力低、投入成本少等优质的特点，这些特点使其收获了一大批的忠实用户。这些用户不仅是被东丽反渗透膜的优异性能吸引的，更是因为东丽反渗透膜在操作维护等方面具有简易性，不需要耗费太多的人力物力，能够为使用者大大地节省相关的成本。
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